Trifluoruro de nitróxeno (NF3) Gas de alta pureza
Información básica
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Cal é este material?
O trifluoruro de nitróxeno (NF3) é un gas incoloro e inodoro a temperatura ambiente e presión atmosférica. Pódese licuar baixo presión moderada. NF3 é estable en condicións normais e non se descompón facilmente. Non obstante, pode descompoñerse cando se expón a altas temperaturas ou en presenza de certos catalizadores. NF3 ten un alto potencial de quentamento global (GWP) cando se libera á atmosfera.
Onde usar este material?
Axente de limpeza na industria electrónica: NF3 úsase amplamente como axente de limpeza para eliminar contaminantes residuais, como óxidos, das superficies de semicondutores, paneis de pantalla de plasma (PDP) e outros compoñentes electrónicos. Pode limpar eficazmente estas superficies sen danalas.
Gas de gravado na fabricación de semicondutores: NF3 úsase como gas de gravado no proceso de fabricación de semicondutores. É particularmente eficaz no gravado de dióxido de silicio (SiO2) e nitruro de silicio (Si3N4), que son materiais comúns utilizados na fabricación de circuítos integrados.
Produción de compostos de flúor de alta pureza: NF3 é unha fonte valiosa de flúor para a produción de varios compostos que conteñen flúor. Utilízase como precursor na produción de fluoropolímeros, fluorocarburos e produtos químicos especiais.
Xeración de plasma na fabricación de pantallas planas: NF3 úsase xunto con outros gases para crear plasma na produción de pantallas planas, como pantallas de cristal líquido (LCD) e PDP. O plasma é esencial nos procesos de deposición e gravado durante a fabricación do panel.
Teña en conta que as aplicacións e regulamentos específicos para o uso deste material/produto poden variar segundo o país, a industria e o propósito. Siga sempre as pautas de seguridade e consulte a un experto antes de usar este material/produto en calquera aplicación.
